冷卻水機

蒸鍍機

用於快速熱退火及蒸鍍機機台冷卻使用。

將所需材料蒸鍍至基板上，形成薄膜電極。

快速熱退火(RTA)

旋轉塗佈機(Spin Coater)

用極快的升溫，可將材料表面結構重組、缺陷的減少。

將光阻劑、溶液均勻旋開至晶片表面。

曝光機

晶片清洗台

黃光室光罩曝光機經由曝光機所發出紫外光對晶片上光阻照射，可將光罩圖騰轉譯至晶片。

防止化學藥品氣體外洩，且可抵禦震動使得藥品不會互相碰撞造成碎裂。

洗滌塔控制箱

自走式蝕刻機

藉由化學作用，從ALD排出廢氣中轉移至吸收液中，而達到空氣淨化。